NF3氣體在高能化學激光、電子工業(IC)以及太陽能光電產業等方面具有非常廣泛的應用。目前，昊華氣體擁有一條年產2000噸的NF3生產線，其生產工藝、設備均處于國內領先地位。
產品特性
NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩定和有毒的氣體。相對分子質量為71.002，沸點為-129.06℃。
應用說明
三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑。